第622章 ，外国人的钱赚起来更香(3/5)

到100倍。才能用一张用来做光刻的光掩模。和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。但是这种光照方式的失败率和成本都很高。因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。成本是相当的高。后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。也就是接近式的光刻机。但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。直接用上了1974年才出来的投影技术。这玩意成本还挺高的，需要不少的光学器件，都需要从日本进口。当然了，这个成本高也是相对的。此时王青松在那里琢磨着，如果能把电脑和EDA软件拿出来。那光刻成本就会下降非常的多。要知道，一个工程师刻一张光掩模出来，哪怕是一张简单的，也需要大量的时间。随后在那里琢磨了一下，还是摇摇头。反正这种个光刻机是卖给国外的，让他们自己手刻去吧。而且他也暂时不会把投影式光刻机卖给国外。这玩意现在民用用不上，最大的用处就是军用，因为开发导弹系统需要大量的芯片。这种投影式光刻机第一次面世是1974年，也是未来光刻机的主体，各种进阶版都是在这种光刻机的基础上升级过来的。导弹系统？王青松想到这里，在那里琢磨着一个事情。不知道这玩意内地需不需要啊！思绪间，就听到斯波克兴奋的说道：“好了！设备还在实验中，但是根据目前测试出来的结果，成品合格率能提高4倍！将成本降低3.5倍。这或许是个划时代意义的产品。”王青松闻言笑了笑。这款产品，在光刻机市场上来说的话，确实是属于里程碑意义的产品。“行，不过接近式光刻机还是需要完善一下，到时候组建公司生产出来的产品卖给别的半导体公司。”接近式虽然有缺陷，因为分辨率问题导致仅支持3μm以上制程。但是在这时代已经足够了。成本也比接触式要低许多。用在军方上可能有些不足，但是用在普通企业上还是没问题的。哪怕是接近式